2020年8月2日，复旦经院全球校友云讲堂新加坡站——“光刻机产业及其在中国的发展”在ZOOM会议在线召开。本次云讲堂由复旦大学经济学院全球校友会和复旦经院新加坡校友联络处联合举办，邀请到复旦大学经济学院2005届经济学博士校友，现任新加坡光控精技有限公司（光控精技）执行董事/副CEO、光大控股半导体产业投资基金（光大半导体基金）CEO杜晓堂先生主讲，并由复旦经院05届博士谢清喜校友主持。此次云讲堂杜先生主要就光刻机产业当前的发展现状和投资机会发表了自己的观点。
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杜先生首先对光刻机进行了简单的介绍。半导体产业是全球化分工程度最深的产业，而光刻机是半导体产业中技术水平最高和工艺最复杂的核心装备，也是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体的大型复杂系统，它的研发过程及成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。从技术发展路径来看，光刻机经历了从接触式光刻机、接近式光刻机、步进式光刻机到目前普遍采用的步进扫描投影式光刻机的发展历史。而就市场规模来看，2018年全球IC前道光刻机整机销售规模约98亿美元，占集成电路设备销售额约25%；2017年光刻工艺重要组成——掩模版的市场规模已达到45亿美元，已成为仅次于硅材料的第二大半导体制造材料市场，光刻机产业可以说具有良好的发展态势。台湾和韩国是光刻机在全球的主要市场，而随着技术的进步和以中芯国际为代表的国内芯片厂商的崛起，中国已成为光刻机全球第四大市场。
紧接着杜先生提出，由于高端光刻机制造难度极大，目前全世界只有少数几家公司能够提供高端量产商业光刻机，荷兰ASML、日本Nikon和日本Canon三大厂商垄断了全球中高端光刻机绝大部分市场份额。而生产线和研发用的低端光刻机多为接近式和接触式光刻机，目前参与低端光刻机市场竞争的主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ，以及部分国产品牌和韩国、台湾品牌。在中国，光刻机技术研究总体起步较晚，发展之初国产光刻机的分辨率仅能达到微米或亚微米级，同国外主流产品存在20年的巨大差距。为尽快缩短与国际光刻机技术的差距，国内光刻机领域不断加强同国际先进光刻机量产厂商的技术交流合作，国内光刻机企业也加强了自主研发的投入力度。据悉上海微电子预计将在2021-2022年交付首台28nm的光刻机，国内光刻机技术与国际领先水平的差距正在逐渐缩小，但5年内仍是难以挑战ASML统治地位。杜先生认为这种顶级机器的研发需要长期的技术积累才能有所突破，绝非一蹴而就。
最后杜先生分析了整个光刻机产业链的投资方向。杜先生认为，打通光刻产业链将成为国产光刻机追赶ASML的关键。受《瓦森纳协议》等国外技术管制影响，国产高端光刻机无法像ASML一样通过全球合作、并购突破，只能依托本土光刻组件和配套设施产业链自主研发实现突破。虽然说光刻机本身中短期内难以追赶ASML,但光刻产业链仍存在投资机会。基于此，杜先生从投资的角度罗列并分析了我国市场上光刻机整机、组件和相关配套设备的生产商。于此同时杜先生还提出，由于成长性尚未体现、估值高，或者光刻机产业链业务占比低，以上关注标的中的二级市场股票暂不推荐，建议密切关注清溢光电、精测电子。而一级市场标的需要实地拜访，了解更多信息，建议保持关注。
主讲人演讲完毕之后，对在线观众提出的问题进行了解答，针对国内光刻机供应链、华为光刻机产业研发前景等问题进一步分享了自己的观点。至此，本次云讲堂在热烈的氛围中圆满结束。此次云讲堂受到了热切的关注，收获了许多真知灼见。
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